2014/04/23-連于慧
台積電紮根高階封測技術多年,但力拱2.5D技術基礎的CoWoS(Chip on Wafer on Substrate)策略因成本太高,至今僅有Xilinx等少數客戶採用,近期在大客戶極力催促下,台積電提出InFO(Integrated Fan-out)封測服務計畫,值得注意的是,該項由傳統封裝Fan-out技術延伸出來的變形3D技術,現已有蘋果(Apple)、高通(Qualcomm)及聯發科3大客戶在門口排隊,計劃2015年產品正式問世。
台積電看好未來3D IC世代來臨,採用高階2.5D封裝技術率先推出CoWoS服務,但問世數年成本仍是降不下來,雖然業界看好3D IC技術將在2016年普及,然現階段價格居高不下,客戶極力要求更低成本的解決方案,台積電遂提出另一個封測方案InFO服務。
台積電InFO服務係採用傳統Fan-out封測技術概念,所延伸出來的新式整合型技術,可稱為變形3D IC技術,大幅降低生產成本,預計2015年開始引進機台設備,最快2015年可開始量產。半導體業者指出,目前傳出已表態採用InFO服務包括蘋果、高通和聯發科3大客戶,而原本採用CoWoS服務的Xilinx亦考慮轉用InFO服務來降低成本。
半導體業者表示,製程技術進入20奈米和16/14奈米後,晶圓尺寸變小,有助於封裝整合更多晶片,然晶片客戶對於耗電、尺寸、效能及速度要求相當高,台積電一直在力推新式的整合型服務,原本CoWoS服務水準雖然到位,但過不了成本關卡,新式整合型Fan-out技術則可兼顧價格要求。